二手 AIXTRON 2000 #9222202 待售

AIXTRON 2000是一種多室、矩形、低壓金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）反應器，設計用於薄膜沈積應用。這座反應堆使研究人員和工程師能夠將復合半導體層精確地沈積在各種底物上。2000年設三個單獨分庭；主室、排氣室和惰性氣室。主室包含基質材料，並允許將傳入的前體材料分解並霧化到基質上。排氣室用於將反應產物從工藝室排出，而惰性氣室則防止環境汙染。AIXTRON 2000利用垂直安裝的氫化物燈為化學氣相沈積過程提供能量。這些燈提供了250-400 nm範圍內的紫外線（UV）能量，使傳入的前體材料分解，使薄膜沈積所需的化學反應成為可能。反應堆的精密過程控制是在350-420°C的可調溫度範圍內實現的。通過1-105毫巴的壓力控制和可調氣閥控制，對工藝氣體的流量進行了精確的調節。2000年的內置安全功能提供了防止過程中斷、過壓和過熱的保護。AIXTRON 2000的多功能性是其在該領域取得成功的關鍵。例如，2000可以有效地沈積、蝕刻和清潔各種復合半導體層。也適用於沈積二極管、薄膜晶體管、LED、肖特基勢壘等復合半導體器件。AIXTRON 2000提供了一個無害環境的備選方案，其廢物產生最少，揮發物排放少，除前體氣體外沒有危險材料。此外,其堅固耐用的設計和較低的維護要求使2000能夠長時間可靠地運行。總之，AIXTRON 2000是一種獨特的MOCVD反應器，它結合了魯棒性和精確的過程控制，使科學家和工程師能夠準確可靠地沈積各種薄膜層。其操作參數多種多樣、環境友好、維護少，是工業復合半導體沈積的理想選擇。