二手 AIXTRON 2400 G3 #293700069 待售
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ID: 293700069
優質的: 2001
MOCVD System
MKS 651C Reactor pressure PC Controller
EBARA A25S Dry pump
(9) MO Baths
Gases: N2, H2, PH3, AsH3, SiH4
Source MO:
(2) TMIn
(3) TMGa
(2) TMAl
(2) DeZn
Gas lines:
N2 Source line
H2 Line
(2) Lines for AsH3
(2) Lines for PH3
(2) Lines for SiH4
N2 Line for compensation of the hydride line
N2 Line for MO compensation
Materials based on GaAs and InP: InAs, GaInAs, GaInAsP, GaInP, AlGaAs, AlGaInP, GaAsP, GaInAsP + P or N doping with Zn or Si
(2) Screens
Keyboard
Mouse
Manuals included
Operating system: Windows 2000 Professional
2001 vintage.
AIXTRON 2400 G3是一種高性能外延反應器，設計用於先進材料研究和生產高質量復合半導體。AIXTRON 2400G3是一種大功率、大容量、自動校正對稱反應堆，允許廣泛的材料進行處理，包括III-V化合物、II-VI化合物和石墨烯。2400 G3為研究和開發用於高性能電子、光電子學、量子計算和太陽能應用的下一代復合半導體材料提供了獨特的功能組合。2400G3反應堆采用6英寸（15厘米）固體石英淋浴敏感平臺，最多可選擇六種元素。淋浴頭敏感器中的細胞在熱平衡上具有相等的入射通量分布，從而能夠在大面積基質上均勻沈積。此外，對稱設計確保均勻摻雜，並允許優化材料沈積速率。直觀的軟件允許用戶輕松調整預設的流程參數,精度降至0.1nm。AIXTRON 2400 G3反應堆還具有高性能的Multi-ZoneTM控制器,可調整多達五個獨立的工藝區域,以實現無與倫比的工藝控制。AIXTRON 2400G3反應堆能夠調整每個區域的不同氣流、溫度、壓力和電流，從而能夠精確控制所有工藝參數，從而實現最復雜的工藝流程。2400 G3采用了多項高級功能,為用戶提供了更大的便利。其中包括一個自動化的物料裝載機，以便於基板的處理；保護電池的內置安全措施；真空系統和基板；多功能動力裝置；用於高效系統監測和操作的遠程訪問；工具參數的自動控制；運行結束和過程報告。2400G3反應堆能夠產生高純度、無缺陷的材料用於各種用途。AIXTRON 2400 G3反應堆是那些尋找可靠、高性能反應堆以進行高級化合物研究和生產高質量半導體材料的人的理想選擇。
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