二手 AIXTRON 2600G3 HT #9233663 待售

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AIXTRON 2600G3 HT
已售出
製造商
AIXTRON
模型
2600G3 HT
ID: 9233663
MOCVD System.
AIXTRON 2600G3 HT是一種先進的、高性能的、封閉容器的化學氣相沈積(CVD)反應器。該反應器旨在為各種材料提供可靠和高質量的薄膜沈積。AIXTRON 2600 G3 HT適用於半導體和其他薄膜塗層應用,如金屬、氧化物和氮化物的沈積。2600G3 HT的核心是堅固的沈積室,它由安裝在剛性框架上的不銹鋼墻和地板組成。這種設計允許在建造時對腔室進行均勻加熱和冷卻,以提供可靠和長壽命的操作。該設備最顯著的特點是先進的溫度控制系統,能夠精確控制溫度剖面和過程重復性。這使得沈積非常穩定,薄膜表面缺陷最小化。2600 G3 HT還配備了集成的兩步高溫計,在過程中提供實時溫度測量。3900A裝置提供了更高的安全性和持續的機器生命周期,確保了一致和高質量的薄膜沈積。它的快速負載鎖定機制允許連續操作,並為晶片提供快速周轉時間。這種增強的工具安全性也由集成的TC預警資產負責,該資產監測晶圓和夾具的溫度,以確保晶圓不會暴露在不安全的條件下。除了用戶友好可靠的運行,AIXTRON 2600G3 HT反應堆還通過先進的淋浴頭技術提供優化的薄膜分布。噴頭設計減少了不同晶片層之間的變化,從而確保了沈積過程的均勻性。通過良好的氣體和流體流動傳遞以及混合,進一步提高了工藝穩定性,形成了粒徑均勻、能量均勻的顆粒均勻沈積。最後,利用高脈沖電流電源,AIXTRON 2600 G3 HT可為超精確厚度控制提供最高分辨率的超細塗層。總體而言,2600G3 HT是一種高度創新和可靠的反應堆,旨在幫助客戶制造精確、高質量的金屬、氧化物和氮化物薄膜塗層。其先進的溫度控制模式、增強的安全措施、淋浴頭技術,確保了最高質量的重復均勻塗層效果。
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