二手 AIXTRON 2600G3 HT #9270065 待售

AIXTRON 2600G3 HT是一種反應堆，設計用於研發新的半導體應用，特別是高溫（HT）工藝。這座反應堆配備了先進的溫度控制設備，能夠承受高達400°C的溫度。它還具有匹配的一對感知器組件和三維（3D）感知器，以及線性和圓錐形氣體噴射柵格和高精度運動控制系統，用於精確的基板定位。AIXTRON 2600 G3 HT是一種高性能系統,在許多薄膜和外延應用中都具有很大的過程靈活性。反應室的設計範圍很廣，可提供高達4800W的功率，200-400W時具有瞬時功率。它也有一個調制的功率單元，可以允許頻率和峰值功率的變化微調沈積過程。2600G3 HT有一個集成的高級過程控制機，支持用戶定義的沈積程序和自動化過程控制。其計算機控制的子系統在沈積過程中監測和調整過程參數，如源氣流、等離子體功率、基板溫度、基板偏壓和惰性氣體壓力。2600 G3 HT采用超高真空系統（UHV）設計，可處理高溫過程，降低汙染風險。其設計參數使得該工具適合生產GaN、GaAs、ZnSe等化合物半導體，以及廣泛的叔化合物。AIXTRON 2600G3 HT的使用對光學和LED行業的研究人員和工程師是有利的，因為這種反應器也適用於光學材料的薄膜沈積，包括低溫（LT）和氫化非晶矽（a-Si： H）。為了安全和一致的性能,資產采用先進的診斷系統來檢測異常的操作條件。它的先進診斷有助於通過監測室內條件和氣體壓力水平來降低受到汙染的風險。總體而言，AIXTRON 2600 G3 HT反應堆是半導體、LED、光學行業研發產品的理想模型。它是安全、可靠的,並且可以執行HT過程以及達到精確的過程控制。它的自動化過程和綜合診斷使研究人員確信他們的工作和結果質量一致。