二手 AIXTRON 2600G3 HT #9395958 待售

AIXTRON 2600G3 HT是一種高通量聚類化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於薄膜材料的高速率沈積。該設備基於模塊化單晶片配置，最多可同時處理16個晶片，非常適合大型生產應用。AIXTRON 2600 G3 HT配備了多種自動化功能,便於操作。高通量氣體混合系統可以快速調整沈積膜的沈積速率和組成。該單元還具有可互換的磁化器設計，使其能夠在不同晶圓尺寸和基材之間快速切換。該機器體積小巧、重量輕,非常適合實驗室或面向生產的應用。沈積過程采用定向反應性氣體比，具有較高的沈積速率選項，從而提高了吞吐速度。具體而言，在反應堆現場進行有效的分區使控制具有特定特性的薄膜沈積過程成為可能。由於2600G3 HT的快速加熱速率，可以在晶圓、基板和基板支架上實現極好的溫度均勻性。磁感器的高導熱系數允許改善膜的溫度均勻性，必要時可以快速更換磁感器，減少停機時間。2600 G3 HT溫度範圍從室溫到700 °C，使其能夠沈積廣泛的材料，如電介質、金屬、氧化物和合金。AIXTRON 2600G3 HT的高溫性能使得它適合沈積金屬氧化物半導體（MOS）膜，如氧化鎢和矽化物。AIXTRON 2600 G3 HT還配備了多項自動化功能，包括可編程控制器、全職集成氣流監控以及可編程安全聯鎖工具。此外，2600G3超線程是為在惰性氣體下運行而設計的，為高質量薄膜的精確沈積提供了一個清潔的環境。綜上所述，2600 G3HT是在研究和生產環境中沈積薄膜材料的理想工具。其高效的沈積工藝和自動化特性，以優異的溫度均勻性和高質量的薄膜提供了更高的吞吐量速度。為確保安全和成功運行,AIXTRON 2600G3 HT配備了多種安全功能,旨在在惰性環境下運行。