二手 AIXTRON 2800 G4 HT #9037227 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9037227
優質的: 2009
MOCVD reactor, 42x2"
Spare Parts:
3 KK-3645-1 2 Inch OUT SEGMENT (6-1)
8 KK-3646-1 2 Inch OUT SEGMENT (6-5)
1 Part No : 40020129 Accessory, Vacuum-wand, D=40
1 4002599 Auflagering "Collector" G4
1 N/A Diffusion-Barrier
1 SPECIAL Exhaust Collector
2 KK-3262-1 Exhaust connection upper(2800 SLEEVE G4용)
2 4002599 Exhauststutzen*Unterteil*2800G4-HT
6 Part No : 90430009 7.52X3.53, EPDM G4 DOR source inner O-ring
7 88.49X3.53, EPDM G4 DOR source outer
2 KK-3714 G4 Quartz Ceiling
2 KK-3635-1 G4 Star Quartz
1 40041894 Gasket*6-fold*G3*25x2*Graphite foil
1 KK-3238 Pull Down Plate (tension_disc)
1 40021106 sapphire ring
5 40040126 Satellite Pin D=1,I=48
1SET(6EA) satellite 7X2" satellite (B Grade)
2 40015202 spacer*ceiling*D560*t=0,3*
22 DD-3271 Star, Outer Quartz Pin
1 4006471 Stutzrohr*6-fach*flammpoliert
1 41020315 Supporting Disc
4 KK-3270 Supporting Disk Pin 4Inch
208/120 V, 3 Ph, 50/60 Hz, 26 KVA
4-wire and ground
In production until Q1 2012
Currently installed in cleanroom
2009 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT（Hot Target）是一種高溫化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於各層處理多種不同材料。它是適合實驗室水平和批量生產的工具，為生產需求提供了可擴展的解決方案，同時提供了可靠和經濟高效的加工平臺。反應堆采用AIXTRON AIN 2900 GOTO VUV工藝室，該室采用了高真空鐘形設計。這種設計提供了廣泛的操作範圍，使各種材料能夠在高達950°C的溫度下進行加工。這是由基板、敏感器和氣體噴嘴的獨立溫度控制、精確的溫度控制以及整個晶圓的均勻溫度分布所支撐的。該工藝室配有AIXTRON CVD反應性氣體註入系統和AIXTRON工藝控制軟件，使其成為各種材料沈積的強大工具。AIXTRON AIX 2800G4-HT內的CVD氣體註入系統旨在準確控制過程中使用的氣體數量和類型。這可確保將精確的化學濃度引入腔室，促進受控和可重復的沈積過程。AIX 2800G4 HT配有AIXTRON PECVD VUV/eV控制系統,可以完全控制沈積和過程的終點。工藝控制軟件可用於設置沈積時間、溫度和速率，還可以監控晶圓上沈積層的均勻性。這樣可以實現一致、可重復的過程結果,並最大程度地減少錯誤。AIXTRON AIX 2800 G 4 HT是處理各種材料的理想沈積反應器，適用於薄膜晶體管、太陽能電池等多種應用。它還能夠執行串聯沈積過程，使多層能夠在一個處理周期內沈積，從而提高吞吐量和效率。
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