二手 AIXTRON AIX 200/4 RF #9195285 待售

AIXTRON AIX 200/4 RF是專門為生產近納米薄膜而設計的工藝反應器。該反應堆在工業上被廣泛用於生產金屬、半導體等多種材料，以及薄膜的其他技術。它具有3軸配置，包括一個電極平臺、一個單獨的基板平面和一個反應室。AIXTRON AIX 200/4 RF中的電極平臺具有具有掃頻功能的射頻源。這允許更高的吞吐量和改進的產品統一性。此外，電極可以很容易地在頻率和功率值進行調整，以優化等離子體發射過程。底物平面也是可調節的，允許使用者操縱底物在反應腔中的位置。AIXTRON AIX 200/4 RF反應堆也可以進行編程，以適應多種配置。在最高工作溫度為1600 °C的情況下，該腔室可用於濺射沈積、晶片鍵合、薄膜生長、平面化等過程。此外，該反應堆還配備了用於溫度控制的大功率光學高溫計。這使用戶能夠精確、均勻地生長薄膜。AIXTRON AIX 200/4 RF也與一系列操作氣體兼容。這其中包括氙氣、k、氮氣和氧氣。因此，反應器可以量身定制，以適應各種需要，允許最佳反應條件和優秀的膜質量。這座反應堆還配有一個外殼，設計有一個特殊的通風系統，以提供優越的溫度、壓力和電壓控制。除了操作上的靈活性外,AIXTRON AIX 200/4 RF的設計易於維護,而且易於監控和故障排除。該反應堆具有先進的數字控制和診斷系統，能夠提供有關其性能的實時反饋。此外，該反應堆還具有內置內存系統，該系統可存儲多達99個預定的工藝配方，使用戶能夠快速回憶和恢復所需的工藝。總體而言，AIXTRON AIX 200/4RF反應堆提供了靈活、動力和可靠性的理想組合。憑借其可編程的運行模式和全面的監測和診斷能力，這一反應堆使用戶能夠在一系列工業應用中以精密和精確的方式成功生產近納米薄膜。