二手 AIXTRON AIX 200 #9359469 待售
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ID: 9359469
MOCVD System, 2"
RF Coil heater
With FILMETRICS in-situ reflectometry system
GaN and Water-cooled quartz reactor
With inner quartz liner, 2"
SiC Coated graphite susceptor: GaN, AlN, InGaN, AlGaN
Gas foil rotation MO sources: (2) TMGa, TEGa, TMIn, TMAl, Cp2Mg (6 MO Channels)
(3) Gas precursor lines and NH3
H2 and N2 Carrier gases
Spare parts included.
AIXTRON AIX 200是一種多晶片批次型沈積設備，設計用於在多種基材上生長器級高質量的結晶材料層。該系統能夠產生直徑不超過200毫米的高分辨率和高質量層。它的設計目的是將材料小批量地沈積到多達八個基板上，使其成為用於原型設計和研究目的的理想選擇。AIX 200具有單區平面磁控管濺射單元和標準矽靶源，使矽、氧化矽、氮化矽等材料得以生長。它具有高度的自動化和易用性,可精確控制層沈積參數,如厚度、晶粒結構和地形均勻性。該機還配備了多波長光學監視器和pH/Denensity/ThermalMeasurement工具，使用戶能夠在整個沈積過程中監測層的質量。AIXTRON AIX 200配備了多個控制系統，包括直流（DC）電源、直流偏置和加熱/冷卻系統。這樣可以進行精確的溫度控制,確保出色的層均勻性和一致的層增長質量。AIX 200還具有先進的壓力控制功能，允許用戶在沈積過程中調節氣體流入並實現對所需反應的精確控制。AIXTRON AIX 200還具有多項安全功能,確保資產的安全運行。其中包括許多外部安全功能,例如防爆密封件,以及一組用於監視、控制和保護模型的集成工具。此外，AIX 200還有一個綜合監測設備，旨在確保人員操作的安全環境。總體而言,AIXTRON AIX 200為各種基材上的設備級高質量結晶材料層的生長提供了可靠、經濟高效的解決方案。它能夠產生直徑達200毫米的高分辨率和高質量層，非常適合原型制作和研究。它還配備了一些安全功能，確保人員操作的安全環境。
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