二手 AIXTRON AIX 2000 #9376992 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2000
ID: 9376992
優質的: 1997
System Does not include NESLAB chillers Process: GaAs / InP PC Part number: 40040471 Planetary disk 5" x 3" d238 H=12 Susceptors CAD A2 UT218 Graphite Part number: 40040227 Rotation susceptor CAD Al UT 234 Uncoated ¢246 x 28 Part number: 40040243 (5) Disks, 2"-3" Uncoated ¢84 x 5 Susceptor CAD A4 Graphite reinst 1997 vintage.
AIXTRON AIX 2000反應器是一種先進的化學氣相沈積設備,用於生長薄膜。是利用低溫反應在基板上沈積薄膜的單室水平管爐系統。AIX 2000有一個集成的石英管,連同內外加熱元件。AIXTRON AIX 2000設有氣動密封門,讓製程氣體進入排空的爐管,製程物理上阻止了環境空氣的滲透。AIX 2000具有許多可用的過程控制功能,使其能夠高度適應許多沈積應用。它包含一個集成的自動化過程控制單元,可以精確控制爐管內部的沈積速率和溫度。它還利用氣體管理機器,允許獨立控制氣體成分和流量,以及壓力控制和監測。AIXTRON AIX 2000設計用於高度可控、可重復和可靠的薄膜沈積處理。它有一個兩區加熱工具,允許加熱樣品和基板表面以進行均勻的低溫沈積反應。它還提供了一個低溫反應環境,在熱循環過程中消除了對底物或樣品的損害。AIX 2000的工藝室有內置的氣體管理資產和先進的冷卻模式。這允許各種高質量的薄膜應用,具有精確和可控的沈積速率。AIXTRON AIX 2000反應堆有一個內置的光學設備,允許操作員監測增長進度,也可以監測沈積質量。AIX 2000反應器是沈積光學活性金屬氧化物薄膜的高效、經濟高效的工具。可用於各類薄膜相關研究項目,如LED制造、太陽能電池制造、光學器件、光伏電池、光電膜等。此外,AIXTRON AIX 2000反應堆還配備了多種工藝控制功能,包括壓力控制、溫度控制、氣體成分控制、氣體流量控制。總體而言,AIX 2000反應堆是一種可靠、經濟高效的沈積各種高質量薄膜的工具。它提供了多種先進的工藝控制功能和內置的氣體控制系統,以大大降低膜汙染的風險。此外,它還有一個先進的冷卻裝置和一個集成的光學機器來監測薄膜沈積質量和均勻性。
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