二手 AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9293775 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2400 G3 HT
ID: 9293775
優質的: 2004
MOCVD System Power supply: 14400 kVA 2004 vintage.
AIXTRON AIX 2400 G3 HT是一種高溫(HT)集束工具反應性離子束蒸發器(RIBE)設備,設計用於制造先進電子材料的復合層。它是AIXTRON集群工具系列的最新產品,能夠提供制造高性能、高溫(HT)薄膜和其他微結構材料所需的最先進的體系結構特征。AIXTRON AIX 2400 G3/HT由沈積室、等離子體發生器組件、基板加工區組成,全部封閉在一個大的、屏蔽的、風冷的不銹鋼外殼內。該系統能夠在50-900攝氏度的溫度範圍內生產先進的沈積配方,沈積速率高達7nm/min。它還包括先進的多傳感器過程控制單元以及實時晶圓跟蹤功能。沈積室被封閉在真空室中,並裝有高溫射頻等離子體發生器,用於在沈積前對基板進行預處理和加熱。AIX 2400 G3 HT的等溫薄膜處理能力允許生產復雜和多層結構。該室的計算機控制數據采集單元便於精確的機器數據處理、連續的過程監控,並使定制的工具參數調整能夠優化過程流。等離子體發電機組件由感應耦合射頻源組成,輸出功率可調節至700瓦。其氣體進料口直接連接到氣體板,以獲得所需的流量和壓力。基板加工區配有兩個晶片間距級,一個用於低溫加工,另一個用於高溫加工。晶片夾緊裝置可確保高溫材料在基板上的準確和可重復沈積。基板加工區還配備了激光傳感器模型,用於嚴格端點精度和實時基板跟蹤。綜上所述,AIX 2400 G3/HT是一種為生產高溫薄膜和其他微結構材料而設計的堅固可靠的集群工具反應式離子束蒸發器設備。其計算機控制的沈積室、等離子體發生器組裝和基板加工區域為制造復雜的先進電子材料層提供了高效、經濟高效的解決方案。
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