二手 AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9352601 待售

AIXTRON AIX 2400 G3 HT是一種先進的熱化學氣相沈積（CVD）反應器，專門為生產高效半導體器件而設計。這是一個高度先進的系統，能夠嚴格控制和均勻沈積過程，具有優越的薄膜質量。AIXTRON AIX 2400 G3/HT具有較大的加工空間,可同時容納多達四個4英寸晶片。該腔室的設計旨在促進沈積晶片的均勻性，並具有有效的氣體循環和最佳的隔熱性能。來自AIX 2400 G3 HT的輸出極為均勻，跨多個晶圓具有高度的可重復性。AIX 2400 G3/HT配備了強大的加熱器自適應控制系統（HACS），用於整個腔室的精確溫度控制。這一特性保證了沈積條件的均勻性以及穩定的氮氧（N/O）選擇性。它還可確保溫度保持在最低水平,以便進行一致的沈積過程。AIXTRON AIX 2400 G3 HT使用先進的過程控制技術來監控和調節整個過程。這包括實時響應不斷變化的參數以實現準確控制的反饋功能。這些技術結合了智能軟件算法和強大的驗證工具，以獲得高度可靠和可重現的結果。AIXTRON AIX 2400 G3/HT具有多源加熱選項,具有卓越的靈活性。這允許選擇單個源或多源加熱器設置,具體取決於所需的輸出。此功能增強了系統生產質量一致的膠片的能力,同時也為用戶提供了定制過程以滿足其特定需求的能力。AIX 2400 G3 HT啟用的熱CVD工藝效率極高,而且非常靈活,因此可以沈積各種材料。這包括了III-V半導體材料，如砷化氙（GaAs）和氮化銨（GaN），以及氧化材料，如氧化​​了。這使用戶能夠靈活地為自己的特定目的量身定制自己的設備。綜上所述，AIX 2400 G3/HT是一種高度先進和可靠的熱CVD反應堆，設計用於高效和高質量地沈積各種材料。它具有強大的HACS,可實現最佳溫度控制、精確的過程控制和多源加熱,具有卓越的靈活性。因此，它生產的高質量、高可重現膜具有跨多個晶片均勻性。