二手 AIXTRON AIX 2600 G3 HT #293592763 待售

AIXTRON AIX 2600 G3 HT是一種化學氣相沈積（CVD）設備，用於材料薄膜和納米結構的生長。它非常適合材料科學、光電、半導體和微系統技術領域的研發項目。AIX 2600 G3 HT是一個六邊形的水平反應堆，具有四臂幾何形狀，允許多達六個過程單元同時操作。單個電池被設計為與不同的源材料兼容，並具有具有低垂直溫度梯度的均勻溫度分布。每個單元都有一個獨立控制的底源、中源和頂源，包括垂直固體源操作系統。該單元裝有一臺RF/DC等離子體發生器，利用射頻（RF）和直流電（DC）的組合來創建等離子體。RF/DC可以提高過程的可重復性，特別是在沈積速率、層均勻性和增長率方面。AIXTRON AIX 2600 G3 HT的溫度範圍為10°至350 °C，允許用戶從四個不同的溫度均勻性級別中進行選擇。最大轉速為300 rpm可確保良好的溫度曲線均勻性。個別原料的溫度由機器獨立調節和密切監控。AIX 2600 G3 HT的沈積速率為0.2至3.0nm/s，壓力範圍為0.2至3.0 torr。該工具配有一個完全集成的過程控制資產，用於監視過程變量，以最大程度地控制正在處理的材料。AIXTRON AIX 2600 G3 HT具有多種安全特性，包括緊急關機模型、自動排氣、空氣采樣和幹式排氣設備。這樣可以確保系統的使用安全,並保持過程的質量。總體而言，AIX 2600 G3 HT是材料科學和光電子應用的高效通用單元。它具有很高的統一性、可重復性和速度,是研究項目的理想選擇。