二手 AIXTRON AIX 2600 G3 HT #9352600 待售

AIXTRON AIX 2600 G3 HT是一種模塊化、大功率、分子束外延（MBE）生長設備，設計用於生產高品質、外延層。它是一個多區域設計,包含三個獨立加熱的區域,分別覆蓋Growth、Shadow和Analyser範圍,以及第四個未加熱的區域,用於光學表征。該系統允許對適合生產復合半導體材料如GaAs、InP、GaN、AlGaAs、InGaAs等的薄膜進行精確控制的逐層沈積。AIX 2600 G3 HT的生長區是其最大的，達到500至1000°C的溫度，在所有三個區域都有獨立的溫度控制。該裝置的穩定溫度減少了整個生長周期內不可避免的溫度波動次數，促進了獨立的纖薄層的均勻、可重現的生長。影子區作為設備內的一個額外的生長區，經常被用作分析器和生長區之間的緩沖區，從而防止分析器區的直接汙染。分析儀區由高分辨率光譜儀組成，能夠對生長參數進行連續的在線監測。這是借助石英晶體微平衡（QCM）和石英晶體電平衡（QEB）技術完成的。這些措施允許精確調整生長參數，以便在基板上形成均勻的單晶材料。此外,AIXTRON AIX 2600 G3 HT還配備了功能強大的4通道光學視圖單元和額外的特寫攝像頭,使機器極其方便用戶使用,並能夠以盡可能高的分辨率優化光學特性。它還利用EasyScan軟件包,該軟件包使用線掃描密度計定量測量正在生長的層的厚度和組成。AIX 2600 G3 HT所啟用的所有這些特性使其成為制造先進半導體材料和器件結構的高度通用和強大的反應堆。其無懈可擊的精確度和可重復性使得高質量的薄膜層能夠以最高的效率生長。