二手 AIXTRON AIX 2600 G4 HT #9160106 待售

AIXTRON AIX 2600 G4 HT是先進半導體材料外延生長的高通量、高性能反應堆。它具有多種尖端特征，包括全加熱源室、多通道EF散光儀、pECVD沈積系統和各種行星安裝基板支架。這種組合在實現高效和高溫過程控制方面起著關鍵作用。AIX 2600 G4 HT有一個由厚壁金屬氧化物石英管製成的大型源室，用一組獨立控制的多區電爐加熱。可調氣流系統允許精確控制外延過程中使用的反應物氣體。源腔能夠達到高達1200 °C的最高溫度。反應堆的電子轉發單元（EFU）是一種多通道散射激光幹涉儀。該設備能夠精確控制源腔壓力,並提供有關增長環境狀態的反饋,用於實時過程監控和優化。而且，AIXTRON AIX 2600 G4 HT配備了行星安裝的基板支架。該裝置包括一個伸縮適配器，便於處理和靈活的底物持有，同時也允許不同的試劑同時分布到多個底物位置。這種多位置功能允許更大的流程靈活性和統一性。反應堆中生長的外延層可以通過pECVD或等離子體增強化學氣相沈積系統進一步表征和監測。這些系統提供直接來自生長室的層的組成和厚度的實時分析。這種先進的沈積技術利用高頻電場將少量反應物氣體分子分解，可用於電介質膜和薄氧化物的沈積。最後，AIX 2600 G4 HT是先進半導體材料外延生長的強大反應器。它具有加熱源腔、多通道散光激光幹涉儀、pECVD沈積系統和多種行星安裝基板支架等尖端特點，是高效高溫過程控制的理想選擇。