二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9064064 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT
製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9064064
優質的: 2010
GaN MOCVD System EpiTT Second wave length: 405 nm Source: TMGa-1, TMGa-2, TMAl-1, Cp2Mg-1, Cp2Mg-2, TMIn-1, TMIn-2, TEGa-1 Thermal baths: (5) RM 6S (2) RM 25S 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一種高通量(HT)反應堆,適用於廣泛的應用和材料。它是傳統半導體生產系統的高性能、低成本替代品。AIXTRON AIX 2800G4-HT利用AIXTRON行業領先的MOCVD和HDPCVD技術提供更高的晶圓吞吐量產量和可擴展性。AIX 2800 G4反應堆采用雙室架構建造。上腔為高溫MOCVD區域,下腔為低溫HDPCVD區域。所有反應堆部件都裝在絕緣環境中,並進行密封,以保持有效沈積所需的精確溫度和壓力水平。AIX 2800G4 HT設計易於安裝、操作和維護。AIX 2800 G 4 HT具備一流的安全防範措施,包括高端排氣、車載診斷軟件、可編程參數和智能過程監控。此外,AIXTRON AIX 2800 G4HT能夠以高質量和大批量的形式沈積各種材料。AIX 2800 G4 HT能夠生產生長速度高達20微米/小時的半導體級材料。AIX 2800G4-HT可容納6英寸大小的晶片,並為精確的沈積控制提供3D可控比率。此外,AIXTRON AIX 2800G4 HT所有者可以自定義其速度、溫度和壓力設置,以針對其特定的應用需求優化沈積過程。AIXTRON AIX 2800 G4 HT還具有先進的等離子體處理能力,包括快速循環和反應性氣體註入。AIXTRON MCVD和HDPCVD技術非常適合矽、散裝、散裝等材料。此外,AIXTRON專有的Pulsed-System技術減少了沈積時間,並允許AIXTRON AIX 2800G4-HT在更短的時間內實現所需的工藝結果。綜上所述,AIX 2800G4 HT是一種強大而高效的雙室高溫/低溫反應器,能夠進行各種半導體沈積過程。AIX 2800 G 4 HT能夠處理尺寸不超過6英寸的晶片,處理從矽到的材料,並提供半導體級材料所需的精確控制。
還沒有評論