二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9064065 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一種設計用於薄膜沈積的最先進的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器。反應堆在從室溫到800°C的一系列工藝溫度下運行，具體取決於材料。該廠配備了一系列工藝氣體，能夠生產多種材料的優質薄膜。AIXTRON AIX 2800G4-HT是一種三室設計，可根據所需沈積類型配置為單室或分室設備。主加工室被封閉在一個倒鐘形的不銹鋼室內，有一個集成的冷卻系統，既冷卻基板，又去除過程相關的熱量。一個氣源歧管被整合到鐘形腔室中，允許輸送多達四種工藝氣體，用於沈積各種材料。主室包括一個後側氣體噴射器，用於輸送反應性物質，用於更困難的薄膜應用。該室還具有氣體基脫氣室的一個選項，允許從加工氣體中清除氣相汙染物或與材料有關的物質。AIX 2800G4 HT還具有一系列可選功能,可用於更高級的沈積過程,例如基於脈沖的沈積室。該腔室的設計旨在通過為選擇性區域沈積過程提供工藝氣體脈沖輸入來進一步改善對膜厚度和組成的控制。AIXTRON AIX 2800G4 HT的控制單元基於功能強大的個人計算機,為操作員提供直觀的圖形用戶界面。反應堆還設計為與集成的過程監測和計量系統兼容，允許精確控制薄膜性能。總體而言，AIX 2800 G4HT是一種精密的薄膜沈積機，可精確控制薄膜性能和卓越的可重復性。AIX 2800G4-HT具有廣泛的先進功能,是任何薄膜沈積操作的強大工具。