二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9171480 待售

製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9171480
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 2009
MOCVD System, 4"-6" Process: GaN 2009 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一種用於高溫催化過程的高通量、單晶圓行星反應器。它是為各種與電力電子、光電、VLSI、MEMS和微系統有關的薄膜材料的熱增強沈積而設計的。AIXTRON AIX 2800G4-HT基於堅固的通路、熱管冷卻、死胡同配置,可高效、均勻和可重復地沈積高溫耐火材料,如金屬矽化物和氮化物。該設備具有一個大的加工區,可容納直徑達十二英寸的晶片。AIX 2800G4 HT的工藝室設計是基於經過驗證的熱管冷卻單晶圓行星幾何原理。這種設計提供了熱點和冷區之間的最佳熱平衡,膜厚度和密度的極好的均勻性。AIX 2800 G4HT還利用了創新的接入室以及獨特的氣體屏蔽技術。該檢修室允許有效裝卸晶片,為基材加工提供了一個幹凈的環境。AIXTRON AIX 2800G4 HT結合了高通量的自動脈沖系統,可確保薄膜的無瑕疵制造,消除晶片對晶片的變化和顆粒侵蝕。該設備還具有集成的智能機器控制器和軟件,在優化沈積參數的同時增強了用戶的安全性。集成配方創建和控制軟件還允許用戶通過一些簡單的擊鍵,輕松選擇特定材料和工藝的最佳沈積參數。AIX 2800 G4 HT旨在確保最低限度的維護和卓越的操作可靠性。它采用了一種綜合氣體輸送工具,使過程氣體的安裝和維護過程自動化。此外,先進的過程中顆粒監測資產通過消除可能影響性能的顆粒來確保膜的高質量塗層。總之,AIXTRON AIX 2800 G4HT是一種高效高效的高通量、單晶片行星反應器,是各種薄膜材料熱增強沈積的理想選擇。該型號配備了多種特性和技術,確保了最佳的熱平衡、薄膜厚度的均勻性、可靠的操作和最小的維護。
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