二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9226196 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9226196
晶圓大小: 2"-4"
優質的: 2010
MOCVD System, 2"-4" GaN Base In-situ tool ES-A70 Dry pump Size: 11"x4" Manuals Gases: Gas / Source / Push NH3_1 / 23000 / 500 NH3_2 / 23000 / 500 SiH4_l / 50 / 100 SiH4_2 / - / - TMGa / 1000 / 1000 TMAI / 500 / 500 Cp2Mg / 1000 / 500 TMIn / 1000 / 500 TEGa / 1000 / 500 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一種利用快速熱處理(RTP)和多區加熱技術的高溫化學氣相沈積反應器。這一先進技術旨在以可重復和可靠的方式將薄膜沈積在基板上。RTP允許使用多種加熱器元件和多種氣體對基板和反應堆室進行高效、均勻的加熱。AIXTRON AIX 2800G4-HT提供低缺陷處理機制,具有良好的熱均勻性和控制性,非常適合III-V和Silicon Photonics等應用。AIX 2800G4 HT反應堆是一個高度可定制的平臺,能夠針對特定的工藝條件(如溫度、壓力和註射率)進行配置。其生產級設計采用分布式多區加熱器,在整個基板上具有獨立的熱控制。這種配置允許精確控制沈積速率、均勻表面塗層和薄膜性能。AIX 2800 G4 HT反應堆利用增強型前體,創造出表面覆蓋率極好的單晶層。該反應堆還支持閉環過程控制,允許將所需材料自動和監測沈積到基板上。這種反應器的高選擇性保證了清潔薄膜和特性,具有良好的表面平面性和減小的邊緣珠形成。AIXTRON AIX 2800 G4HT還具有較高的工藝穩定性、準確性和可重復性。可變射頻功率允許精確控制沈積速率,而堅固的晶圓處理系統確保晶圓基板從盒式磁帶到腔室的輕柔處理和安全傳輸。AIXTRON AIX 2800G4 HT是工業級沈積和塗層的終極解決方案。它的高級功能加上可定制性,為薄膜應用程序提供了無與倫比的可靠性和質量效果。
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