二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9248637 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9248637
晶圓大小: 4"
優質的: 2011
MOCVD Systems, 4" GaN Based LED In-situ monitoring: EpiCurve TT Strain management for large diameter substrates 42x2" Configuration: 400 mbar Growth for bulk GaN 11x4" Configuration: Wafer bowing effect In-situ metrology: EpiCurve TT analysis 6x6" Configuration: Wafer bowing effect In-situ metrology: EpiCurve TT analysis Strain relaxation layer 2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一種高通量的化學氣相沈積反應器(CVD)。對於尋找高效、精確的CVD設備的研究人員來說,這是一個吸引人的選擇。該反應堆設計簡單易用,並配有基本的安全特性,安全運行。它還具有氧化鋁蝕刻敏感器、參數遠程監控和適合連續運行的自動負載鎖定系統。AIXTRON AIX 2800G4-HT設計用於生產各種基材。其操作面積較大,為12 「x 12」,適合大型生產運行。該單元還包含一個陶瓷底部和一個獨立的溫度設置每個敏感。這允許更高的沈積速率,更好地控制膜的制備,以及均勻的材料分布。反應堆進一步配備了快速移動的晶圓轉換機,用於工件的頻繁裝載和固結。轉移過程是在環境中進行的,旨在實現無塵。這樣可以提高沈積質量和確定對工藝條件的控制。此外,AIX 2800G4 HT包含一個高效的氣體輸送工具,配有各種氣泡瓶和流量控制器選項,便於安全處理反應性氣體材料。AIX 2800G4-HT是一個強大而精確的CVD反應堆。其絕緣室和堅固的結構提供了一個極好的溫度控制。自動化的負載鎖定資產允許快速和連續的操作,其210-220V的多種供電選項使其適合多種用途的應用程序。它具有良好的溫度均勻性和高效的氣體輸送模式等技術特點,是快速準確生產薄膜和納米結構的理想選擇。
還沒有評論