二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9262094 待售

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AIXTRON AIX 2800 G4 HT
已售出
製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9262094
優質的: 2010
MOCVD System Type: GaN Capacity: 6"x6" / 4"x11" / 2"x24" 9 Channels chamber coil Hydride line: NH3, (2) Dopant Purifier: H2, N2, NH3 Pumps: DOR SH-110 Pump EBARA ESA70 Pump Susceptor dimension: 520 mm D x 19 mm T H2 Purifier (In line type) TERATECH TPH-LP-500S (100S) Gas: Hydrogen Process methods: Line purifier Flow rate(Nm³/hr): 10, 30, 50, 75, 100, 150, 300 Impurities has been removed: H2, O2, H2O, CO, CO2 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是為半導體工業研發應用而設計的高度先進的沈積反應堆。它具有獨特的設計,結合了改進的膠片生長控制和增強的過程重復性,從而提高過程吞吐量和更好的設備產量。AIXTRON AIX 2800G4-HT利用多種設計原理來優化反應堆性能。它具有較強的源利用系數,能提供較高的源強度和鼓勵物種的有效重組,以及一個低矮的腔室,以改善氣體流動和均勻沈積。該反應器還具有控制速度的晶片級,具有較高的步進重復性和可靠的晶片對晶片覆蓋。AIX 2800G4 HT配備了最新的沈積技術,包括多源反應性離子沈積、底物獨立沈積、離軸塗層、雙目標熱場蒸發。這些技術使得3D集成電路、超大規模集成、復合半導體、光學塗層和銅金屬化等領域的研發成為可能。AIX 2800 G4HT具有先進的工藝控制能力,允許在生長過程中快速檢查和調整沈積參數。這種控制是通過記錄和調整算法的復雜組合來實現的,這確保了核和層設置在特定過程中保持優化。AIX 2800G4-HT提供最大的基板運動,以加快工藝速度,並提供完全封閉的環境以提高安全性。直觀的用戶界面允許簡單的過程設置和監控,系統與所有領先的半導體晶圓廠管理軟件兼容。總體而言,AIX 2800 G4 HT是一種功能強大且用途廣泛的沈積工具,可讓用戶精確控制膠片的生長和過程的可重復性。因此,它非常適合試驗最新的半導體技術。
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