二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9305775 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一種高溫金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）反應器，設計用於生產III-V和II-VI半導體材料的結晶膜。AIXTRON AIX 2800G4-HT包括一個精簡版的AIX 2800 G4，具有顯著降低的真空設備，絕緣反應室壁，以及更高的溫度能力。這種配置使得AIX 2800G4 HT適合於需要使用更高溫度的材料的增長,並且相對於功能齊全的AIX 2800 G4降低了成本。AIXTRON AIX 2800 G4HT具有垂直反應室，其設計可加熱至最高工作溫度850 °C。該腔室采用渦輪泵、擴散泵和背襯泵的優化組合，保持超高真空水平。該系統達到的最大抽水速度高於標準AIX 2800 G4中提供的。該工藝室還設有一個加熱節流閥，以改善工藝溫度控制，為晶圓旋轉木馬分隔加熱區，並能夠在現有的頂部添加額外的加熱元件。AIX 2800G4-HT可以同時使用標準和定制的高級凈化氣體來創建一系列反應條件，使其用戶能夠為各種設備應用生產高質量的薄膜。該單元還支持使用許多基材尺寸，從2英寸到8英寸，以允許各種膠片類型的增長。AIXTRON AIX 2800G4 HT還包括一個數字儀表機，具有Gas Manager、X-Y級、加熱器功率和沈積速率等一系列不同的控制。此儀器工具旨在為研究人員提供全面的過程控制、數據采集和監控的訪問權限。總體而言，AIX 2800 G4HT是一種堅固耐用的高溫MOCVD反應器，具有各種溫度控制選項和先進的工藝特點，能夠沈積高質量的薄膜。它流線型的腔室幾何形狀和降低的真空資產使其成為溫度密集型過程中特別經濟高效的解決方案。