二手 AIXTRON AIX 2800 G4 #9229944 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4
ID: 9229944
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 2008
Epitaxial cluster system, 4"-6" Process: SiC-Epitaxy Gases: C3H8, SiH4, H2 & GMS Prepared for Chlorine Chamber Spare parts Accessories: RF Generator Scrubber Heater Power supply: 380 V, 63 A, 50 Hz, 3 Phase CE Marked 2008 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4是一種研究級化學氣相沈積(CVD)反應器,設計用於半導體器件的開發、生產和研究。該設備非常適合在印刷電子、先進材料和納米設備等苛刻的工業和科學應用中生產高質量的材料和設備。AIXTRON AIX2800G4具有一個冷墻、10區掃視淋浴室,直徑667mm,高度890mm。該工藝室能夠容納450 × 450mm尺寸的較大基板。腔室隔離良好,設計壓力為2毫巴,保證了高工藝重復性。該系統還配備了先進的原位溫度控制,在設定值的+/-1°C範圍內提供穩定性和準確性。AIX 2800G4由AIXTRON PRECISION+™過程控制軟件提供支持,它為用戶提供了一個直觀的界面以及在過程控制和優化方面的高級功能。PRECISION+™軟件允許用戶從世界任何地方訪問流程配方,從任何啟用Web的設備訪問遠程控制流程,並實時設置流程運行。它還具有強大的數據記錄單元,為用戶提供全面的過程分析和監控機器性能的長期運行。AIXTRON AIX 2800 G4反應器采用PDP-MC™多源沈積技術,提高了工藝通量,提高了膜的均勻性。該工具還配備了用於均勻溫度分布、低膜應力和提高工藝穩定性的渦輪ColdWall™技術。它還具有強大的自動化加載和卸載資產,有助於提高工作效率並減少停機時間。總體而言,AIX 2800 G4研究級CVD反應堆是一種高性能模型,具有卓越的工藝穩定性和均勻性。先進技術的使用加上有用的用戶界面和過程控制軟件,使其成為在具有挑戰性的工業和科學應用中產生高質量膠片的理想選擇。
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