二手 AIXTRON AIX 2800 G4 #9394709 待售

AIXTRON AIX 2800 G4是一種最先進的PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）設備，用於工業生產各種薄膜圖案藍寶石基板（PSS）和結構化塗層。該反應器的設計在薄膜沈積方面提供了最高的性能和靈活性。AIXTRON AIX2800G4最顯著的特點是其強大的ICP（感應耦合等離子體）源。該電源包括第二代ICP發電機和專門設計的電源控制器。電源控制器提供多達5個不同的功率級別，使用戶能夠即時調整等離子參數。這種改進的等離子體條件控制使等離子體增強型化學氣相沈積層具有均勻的塗層厚度和優異的均勻性。AIX 2800G4還具有用於反應物氣體和凈化氣體的高精度位置氣體進料系統。它包括一個自動壓力調節器、流量閥和一個多區歧管，將反應物氣體輸送到ICP源。這允許使用者精確控制純和反應性氣體的輸入，從而精確控制薄膜沈積速率。AIX 2800 G4在精確精確的劑量控制方面能夠與全球最高的市場標準相匹配。作為為生產PSS而設計的反應堆，AIX 2800 G4帶有雙反應堆腔室設計，經過優化，能夠在PSS上實現精確、均勻的塗層。這種雙室設計的特點是一個內高室用於薄膜沈積和一個外下室用於圖案。這兩個腔室的精確溫度和壓力控制使得沈積腔室中的壓力和溫度控制極為精確，導致PSS層的均勻性。反應堆還具有較高的定位精度和均勻性。這意味著它能夠精確定位口罩和模具，以達到PSS生產的最高分辨率。該裝置甚至可用於PSS的高分辨率激光輔助沈積（HRLAD）。總體而言,AIXTRON AIX 2800 G 4是一款功能強大且精確的PECVD反應堆機器,提供業界領先的性能和靈活性。其先進的ICP發生器和位置氣體進料工具提供等離子體參數和反應物氣體的精確控制，而其雙反應堆腔室設計則確保PSS的精確沈積和模式化。高的位置精度和均勻性使其成為高分辨率PSS生產的理想選擇。