二手 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9226657 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G5 HT
ID: 9226657
晶圓大小: 2"-6"
優質的: 2011
MOCVD System, 2"-6" GaN Chamber: 56 x 2" / 8 x 6" Temperature monitor: Photrix / EPI TT Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4 MO Source: TMGa-1, TMGa-2, TMAI-1, Cp2Mg-l, Cp2Mg- 2, TMIn-1, TMIn-2, TEG-1, TEG-2 Main body RF Generator: 1210 mm(L) x 800 mm(W) x 2300 mm(H) Main pump: EBARA ESA80W-HDF Pump: (2) Scroll pumps Monitor: Photrix LWL Luxtron Monitor: EpiTT x GS x 405 nm Wiring: 4 Wire + Ground Power: 400 / 230 VAC, 3-Phase 2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT是一種高性能的反應性離子蝕刻(RIE)反應器,設計用於大規模底物的精確蝕刻。AIX 2800能夠同時進行低能(LE)和高能(HE)蝕刻,這一特性使它能夠提供最大的靈活性和工藝精度。AIX 2800配備了一臺13.56 MHz的發電機和一個提供多層陰極/QCM控制的空腔。這種配置提高了蝕刻工藝的均勻性,提高了晶片表面的蝕刻均勻性,提高了可重復性。AIX 2800還具有雙負載鎖、多級泵裝置、帶實時溫度監測的腔室溫度控制系統以及內置的PLC和施耐德電氣伺服控制器。此高級功能集允許運行具有高重復性和準確性的多級蝕刻配方,以及增強的自動化和過程系統控制。AIX 2800還采用了現場殘留氣體分析的最新技術。該系統利用附著在工藝室的質譜儀來分析該室大氣的成分,以優化每個工藝階段的蝕刻性能。AIX 2800的多功能蝕刻功能、先進的功能以及與各種基板的兼容性使其成為半導體、MEMS和LED行業生產設施的理想蝕刻工具。它是制造過程中降低成本、提高設備產量的一種高效可靠的工具。
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