二手 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9241907 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G5 HT
ID: 9241907
優質的: 2011
MOCVD System, 2"-6" GaN Chamber: 56 x 2" / 8 x 6" Temperature monitor: Photrix / EPI TT Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4 MO Source: TMGa-1 TMGa-2 TMAI-1 Cp2Mg-1 Cp2Mg- 2 TMIn-1 TMIn-2 TEG-1 TEG-2 RF Generator Main pump: EBARA ESA80W-HDF (2) Scroll pumps Monitor: Photrix LWL Luxtron Monitor: EpiTT x GS x 405 nm Wiring: 4 Wires and ground Power supply: 400 / 230 VAC, 3-Phase 2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT是一種精密的高通量和滾轉(R2R)生產規模的半導體反應堆,用於加工各種半導體材料,用於光電、光機械和微機電系統(MEMS)的應用。它能夠支撐從300攝氏度到1000C的溫度,在較大的基板區域提供高的工藝重復性和均勻性。該反應堆配備了具有高均勻性和可選能量的雙源LLAG,以滿足柔性工藝需求。高溫設計提供了高摻雜退火和更少的顆粒附著力。此外,它還支持在開放和封閉區域中的厚膜沈積.反應堆有特殊應用,包括金屬有機化學氣相沈積(MOCVD)和原子層沈積(ALD)。此外,反應堆的模塊化設計大大便利了增加吞吐量選項或額外的端站需求。AIXTRON AIX 2800G5 HT具有一個溫度均勻性高達0.3C的石英反應室,以及一個向其原位氣體監測器輸送氣體的過程系統。這使得反應堆能夠實時監測和量化工藝氣體。它還配備了機動化加工甲板,用於更高效的基板裝載和加工,以及船上基板的自動對準系統。AIX 2800 G5 HT具有高級控制和自動化功能,可提高流程可靠性、可重復性和產量。在某些領域,AIX 2800G5 HT尤其突出,例如其流程控制軟件:THE E-Toolz,它允許客戶在自己的系統上執行定制和臨時流程配方以及流程參數化映射,而不是依賴外部服務提供商。AIXTRON AIX 2800 G5 HT提供廣泛的處理能力。它是多個工藝領域的領導者,如液源、電子束和離子束源的熱發射器以及表面控制的薄膜工藝。反應堆還配備了氣體分配控制,用於均勻的氣體/蒸氣輸送,高真空能力,以及高性能的沈積控制系統。總之,AIXTRON AIX 2800G5 HT是一種高通量、R2R生產的反應堆,能夠滿足廣泛的溫度範圍和工藝需求。通過模塊化設計以及先進的過程控制和自動化功能,它為提高可靠性、重復性和產量提供了巨大的機會。此外,其功能(如用於定制和臨時流程配方的E-Toolz可為客戶提供對其處理的更多控制。
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