二手 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9278265 待售
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已售出
ID: 9278265
優質的: 2010
MOCVD System
GaN
Main body
RF Generator
EBARA ESA80W-HDF Pump
(2) Scroll pumps
Chamber: 8" x 6"
Hydried line: NH3-1, NH2-1, SiH4
Temperature monitors:
Photrix LWL luxtron
EpiTT x G5 x 405 nm
MO Sources:
TMGa-1
TMGa-2
TMAl-1
Cp2Mg-1
Cp2Mg-2
TMIn-1
TMIn-2
TEGa-1
TEGa-2
Power supply: 380/230 VAC, 3 Phase, 4 wires+ground
2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT是專門為裝置制造而設計的化學氣相沈積(CVD)反應器。這類反應器用於生產半導體和光電子型材料和組件,如矽片,用於各種含有電氣組件的產品。AIXTRON AIX 2800G5 HT配備了強大的離子源和創新的等離子體發生器,允許在各種工藝大氣中達到高達1000 °C的最高沈積溫度。AIX 2800 G5 HT是一種全晶片沈積設備,意味著它在反應過程中將材料沈積在單個晶片的整個表面上。這使得它非常適合小型和大型批量的應用程序。另外,G5 HT的反應室配有無人駕駛機器人臂,提供晶圓相對於沈積系統的精確運動控制,使得熱均勻性和高沈積質量得以優化。AIX 2800G5 HT效率極高,其電源處理能力無與倫比。它采用了高度可控、可靠的流動單元和可靠的氣體處理機。氣體處理工具是封閉和自動化的,確保其材料加工的最高效率和安全性。AIXTRON AIX 2800 G5HT還具有研究級腔壁,提供無與倫比的沈積過程均勻性。AIXTRON AIX 2800G5 HT的溫度控制資產是其最令人印象深刻的特點之一。該模型提供了晶圓極其精確和一致的加熱,從而提供了卓越的溫度控制和水平均勻感應整個晶圓。這也提高了沈積均勻性,避免了對基材可能發生的任何熱損傷。此外,其靈活的配置和控制設備使用戶能夠對沈積系統進行實時調整,確保最佳工藝結果。總體而言,AIX 2800 G5 HT是一款先進且可靠的CVD設備,可提供快速且經濟高效的設備制造解決方案。其長期的穩定性、機器效率和廣泛的工藝範圍使其成為各種工業應用的最佳選擇,其集成特性也使其適合研究工作。
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