二手 AIXTRON AIX G5 HT #293690958 待售

製造商
AIXTRON
模型
AIX G5 HT
ID: 293690958
晶圓大小: 6"
優質的: 2016
System, 6" GaN epitaxy: TMGa, Cp2Mg, TMAl, NH3, Disilane, H2 and N2 2016 vintage.
AIXTRON AIX G5 HT是一種高性能、高通量的金屬-有機化學氣相沈積(MOCVD)反應器,用於制造先進材料和設備如半導體。反應堆采用高度精密的工藝,以確保各種材料正確暴露於等離子體和基質腔組件。重要應用領域AIXTRON AIX G5 HT能夠以經濟高效的方式生產各種材料。它因其在各種材料基板上的高選擇性而在業界廣為人知,從矽到高性能材料,如用於電子和光電子應用的砷化氙等。此外,高度可重復的生產過程和過程控制允許增加尺寸和結構控制,並使沈積薄膜在大面積上具有均勻性。G5 HT可編程工藝技術AIX G5 HT提供了一套工藝技術,這些技術是任何材料沈積成功的關鍵。可編程沈積源允許使用者使用各種反應性物質,而氣體供給系統則允許使用載流子氣體向反應室供應反應性物質。此外,高頻發電機電源可以產生完全定制的脈沖波形,以增加附著力,提高薄膜的均勻性。等離子體源和基板加熱AIX G5 HT中的高性能等離子體源和先進的基板加熱技術可實現精確的薄膜生產,更好地控制大面積薄膜的化學、結構和機械成分。G5 HT中的等離子體源功能強大,足以實現快速可靠的蝕刻沈積工藝,這是生產先進半導體器件的關鍵。安全和法規遵從性AIXTRON AIX G5 HT的設計完全符合相關安全法規,以確保操作人員的安全操作和最佳安全。此外,反應堆壓力過大,壓力過大,能夠迅速疏散有害物質和蒸氣。最後,AIXTRON AIX G5 HT是為了能效而設計的,它可以在半密封模式下運作,以保證較長的製程時間。
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