二手 AIXTRON Crius 31x2 #293587443 待售

AIXTRON Crius 31x2是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，旨在優化III-V、II-VI和氧化物半導體等材料的晶體生長。它采用低壓、異構布局設計，采用擺臂式淋浴頭，在基板上實現高度均勻性。該設備配有液體和氣體輸送系統，以及電子回旋共振（ECR）等離子體源，允許在過程中精確控制兩種單獨的反應物氣體。Crius使用低壓（2-150毫巴）工藝室來管理各種材料的生長,並提供了一種獨特的經濟高效的解決方案,用於提供高質量的大面積結晶材料。AIXTRON CRIUS 31 X 2是一個反應室，通過使用先進的化學氣相沈積（CVD）和先進的等離子體增強的CVD（PECVD）工藝，可以從底物中生長出多個工程晶體層。反應堆使用均勻的團簇式噴頭在低至中等壓力下運行，這種噴頭在整個基板上提供了非凡的均勻性，並且與其他先進的加工技術具有極好的兼容性。過程中應用的ECR源可確保過程的均勻性。Crius 31x2的先進技術使其適合薄膜金屬、金屬氧化物、多晶矽等層狀材料的生長，用於顯示和半導體制造、通信和MEMS（微機電裝置）等多種應用。反應堆裝有兩個獨立的基座，允許一個在另一個裝卸時進行處理。該機還具有一個可調擺臂淋浴頭，它提供了整個基板完美的均勻性。該反應堆還具有300-1000 °C的高溫範圍，從而在極低的壓力需求下提高了增長率，使得該工具非常適合需要高度精確和可控條件的工藝。CRIUS 31 X 2是用於研究、開發和應用程序的完美解決方案,需要高度可定制的流程,使客戶的規範能夠輕松定制以滿足其流程要求。