二手 AIXTRON Crius 31x2 #293587444 待售

AIXTRON Crius 31x2是一種市售的反應性離子蝕刻設備，設計用於基材的精確和可重復加工。它配備了提供高吞吐量和可重復結果的先進過程控制系統。其用戶友好的控制面板提供了對整個蝕刻過程的精確控制。該單元配備了強大的31千瓦橫向RF電源，獨特、高度精確、專業化的直接蝕刻室，以及可靠的機器人機器，用於裝載和卸載基板。專有的橫向RF電源配備了13.56 MHz的高輸入電壓頻率，可在6.0至30 W之間進行調節，允許精確控制蝕刻速率。蝕刻過程由控制器監控和調整，該控制器支持非接觸式控制，即使基板較小，也能確保精確和可重復的結果。此外，創新的、高精度的直接蝕刻工藝室設計在最大限度地減少功耗的同時仍提供大的均勻蝕刻腔深度。AIXTRON CRIUS 31 X 2由於具有很高的工藝穩定性和可重復性，非常適合大批量生產和工業應用。它能夠在10分鐘內以精確和可重復的方式蝕刻多達100個晶圓，晶圓尺寸可達200毫米，蝕刻深度大於20 μ m。此外，它還配備了預測過程控制和實時數據記錄的軟件包。此外，它還與標準的COTS工藝配方和燃氣箱兼容。Crius 31x2附有一個機器人，既可用作蝕刻室中的載體，也可用作前裝載室中基板處理的托盤。這為在一個工藝周期內處理多達40個晶片提供了極好的靈活性,從而提高了吞吐量。卸載和裝載過程的高定位精度減少了停機時間,從而實現了不間斷的生產過程。總體而言,CRIUS 31 X 2非常適合蝕刻和大批量生產應用程序,並且具有一系列功能,可最大限度地提高生產效率。它的精確度和可重復性使其成為所需應用程序的可靠工具。