二手 AIXTRON Crius 31x2 #293587450 待售

AIXTRON Crius 31x2是為半導體工業的薄膜材料生長而開發的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）設備。該系統包括一個31厘米x 2厘米的工藝室和一個用於薄膜生長的尖端技術，包括一個新設計的射頻/直流磁控管源、兩個石英石英淋浴頭、兩個工藝氣體入口、兩個工藝壓力控制閥、一個軟件驅動的等離子體控制單元和一個工藝氣體分析儀。PECVD機的設計旨在對沈積區的溫度、工藝氣體濃度、噴頭功率和化學成分等沈積參數進行精確的控制和調節。它還能夠選擇有利於過濾的物種，以提高工藝效率。射頻/直流磁控管源是一種先進的設計，它結合了傳統射頻源與直流源的特點，提供了更好的控制反應物氣體電離的能力。該工具利用一個石英淋浴頭和一個石英crucible來形成薄膜。這些成分通過允許等離子體區內沈積參數的均勻組合來維持膜的均勻性。它還有兩個過程氣體入口和兩個過程壓力控制閥，以便對氣體流動進行精確控制。此外，該資產還包括軟件驅動的等離子體控制模型，其中包括用於過程氣體和溫度控制的控制系統。熱處理工藝室采用先進的設計，優化後可最大限度地減少顆粒汙染，提供適合形成優質薄膜的環境。工藝參數、自動化監控設備、射頻/直流磁控管源和石英熔爐的組合，確保了系統能夠提供最佳的工藝控制和極均勻的薄膜生長區。該裝置還具有廣泛的安全功能，包括自動凈化室機器、用於限制氣體汙染的二氧化硫控制工具和用於防止電氣危險的地面故障中斷裝置資產。此外，該模型還配備了工藝氣體分析儀，以監測沈積區的組成，並確保膜生長的均質環境。AIXTRON CRIUS 31 X 2設備為各種薄膜材料的PECVD增長提供了可靠準確的平臺,非常適合各種制造需求。其高效的設計為高質量半導體材料的生產提供了無與倫比的性能，確保了半導體器件制造行業的最高質量和可靠性標準。