二手 AIXTRON Crius 31x2 #293650409 待售
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AIXTRON Crius 31x2是為半導體工業中的應用而設計的工藝反應堆。它是一種具有雙區域沈積的遠程等離子體，專門為MBE和VPE生長過程而設計。作為雙區域設備,AIXTRON CRIUS 31 X 2允許對主室和輔助過程室進行獨立的溫度控制。主室通常用於MBE，即使在高壓條件下也能加工各種溫度均勻的材料。這種溫度均勻性是可能的，這要歸功於腔室的均勻熱壁設計，其中包括一個三軸石墨插件，用於有效的熱隔離。這種設計還最大限度地減少了對環境的熱量泄漏，提高了系統的效率。輔助室一般用於氣相沈積技術如VPE。它采用與內部電極的遠程感應耦合形成等離子體，產生具有廣泛等離子體功率的高度均勻的等離子體，與高端PECVD和ICP源相當。該室的冷壁設計也保證了良好的隔熱性能，消除了沈積區的熱梯度。這樣可以確保穩定的高沈積速率和層質量。Crius 31x2也極具彈性，支撐著廣泛的基材、晶圓和基材持有者。它的多用途裝載室能夠優化基板的加熱和冷卻，以及沈積不同擴散長度和基板材料密度的材料。它還具有無菌裝卸，確保清潔、無汙染的過程。為了最大限度地提高工藝效率，CRIUS 31 X 2配備了多種傳感器，包括溫度傳感器和光發射傳感器。這些系統可監控熱力條件,並能夠精確控制沈積層,即使在熱力或組合物快速過渡期間也是如此。最後，該單元還為用戶方便而設計。它內置的控制和監控機器直觀且用戶友好，允許輕松操作、數據記錄和工具診斷。這確保了生產過程和頂級結果的完全可重現性。
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