二手 AIXTRON Crius 31x2" #9186411 待售

AIXTRON Crius 31x2是一種高科技化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於材料的超高通量沈積和表面調節。31x2具有大直徑2.5英寸的加熱區域,提供卓越的溫度均勻性以及薄膜和非均勻表面的均勻熱分布。這使得反應器非常適合用於石墨烯和納米線復合材料等先進材料的表面改性。Crius 31x2采用高效的低溫等離子體輔助CVD （PA-CVD）工藝，能夠在高效、低壓和溫度條件下沈積金屬和金屬氧化膜。這一工藝表現出了更高的效率、出色的薄膜厚度均勻性以及可控和可重現的表面。Crius 31x2的另一個優點是與其他傳統熱沈積工藝相比，該工藝的吞吐量高。通過使用等離子體，反應器能夠沈積比熱過程快3至5倍的薄膜。Crius 31x2反應堆采用快速熱退火器（RTA）進行材料表面調節。RTA被集成到腔室中，在廣泛的溫度範圍內進行快速熱退火。這可以改善材料的表面活化，清除汙染物，並實現表面重構。RTA還能夠進行沈積後熱處理。31x2還配備了獨立的氣體註入系統，對氣流進行精確、均勻的控制。這使得工藝氣體可以被嚴密監控和嚴密控制，為用戶提供對CVD反應的高水平控制。這一特性的便利性確保了沈積工藝的條件和參數能夠仔細準確地調整，以生產所需的產品和材料。Crius 31x2還提供了一個專門的催化等離子體灰化系統，以及一個專門的，高溫冷卻的熔爐，旨在支持超高沈積速率。該系統完全數字化，具有簡化的用戶界面，便於控制和操作。AIXTRON Crius 31x2是一種功能強大、直觀、高效的CVD工藝,專為高級材料的沈積而定制。其獨特的特性和技術具有改進的吞吐量、均勻性和可重復性,從而提高了材料表面質量。