二手 AIXTRON Crius 31x2" #9283178 待售

AIXTRON Crius 31x2反應堆是一種精密高效的工具，用於生產薄膜材料。它利用電子回旋共振（ECR）等離子體技術，創造出一種強大的電離電子來源，可在薄膜環境中對原子和分子進行反應。這項技術允許在環保的過程中快速生產和沈積優質薄膜。AIXTRONCrius 31x2反應堆由三個主要部分組成：（1） ECR等離子體源、（2）反應堆室和（3）基板支架。ECR等離子體源由一系列由射頻（RF）源供電，在反應堆內產生高能等離子體環境的磁絕緣永磁電極組成。等離子體源被設計成在整個反應堆腔室中保持恒定的均勻功率密度分布，從而在薄膜沈積中實現最大效率。反應堆腔室本身由一系列連接的高導電銅線圈組成，確保腔室內壁的溫度均勻。附著在腔室上的真空系統允許引入薄膜沈積所需的氣體，以及調節腔室壁以獲得最佳薄膜生長。基板支架專門設計用於容納玻璃、石英、矽等多種薄膜基板。然後將基板穿過磁性線圈，暴露在強烈的等離子體環境中。AIXTRON Crius 31x2反應堆是為幾種不同的沈積過程編程的，這取決於所需的材料和材料組成。該反應堆利用低壓濺射技術沈積金屬、半導體或絕緣薄膜基板。這是通過將惰性氣體引入腔室，並使其與目標材料反應生成沈積在薄膜材料上的帶電粒子來完成的。這一工藝效率高，在其廣泛的應用範圍內產生了優越的薄膜質量和均勻性。AIXTRON Crius 31x2反應堆還能進行其他更復雜的過程如反應性離子束蝕刻，可以提高目標材料的表面質量，增加其附著力。此外，AIXTRON Crius 31x2反應器利用一系列反饋傳感器，確保了快速可靠的薄膜沈積的最佳條件。這使得AIXTRON Crius 31x2反應堆成為許多不同應用需要高效薄膜生產的設施的理想工具。