二手 AIXTRON Crius 31x2" #9353181 待售

AIXTRON Crius 31x2是一種兩室金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）反應器，設計用於生產半導體和光伏材料。它由兩個金屬有機CVD腔室組成，連接到一個共同的基礎單元。這兩個CVD腔室的設計有利於均質薄膜的生產和高質量外延層的沈積。第一室，工藝室被用來作為砷化銨（GaAs）、砷化鋁法規（AlGaAs）、砷化鋁法規（GaAlAs）、砷化鋁法規（AlAs）、磷化銨（InP）等材料的生產室。在該腔內，可以進行均質薄膜沈積和更高質量的外延層沈積等工藝。該腔室的一個特點是射頻等離子體源，有助於控制膜的生長速率和化學計量純度。第二室，用烘烤室制備基材作進一步加工。這個腔室有助於減少樣品中的表面氧化層，允許更高的生長速率和改善材料特性。可以通過更改可編程溫度控制器的設置來簡單地處理烘烤過程中的樣品溫度。此外，該腔室與加熱的、過濾過的廢氣清除設備結合使用，以幫助盡量減少腔室中的汙染。預熱器連接到兩個CVD腔室,這兩個腔室負責將基板溫度迅速提高到所需的水平,並在兩個腔室中均勻分配熱量。預熱器連接到可編程的溫度控制器，使溫度能夠得到準確的監控和控制。AIXTRON Crius 31x2的基本單元包含主電源、真空泵、氣體混合系統和電子設備。真空泵用來抽出氣體，這些氣體在兩個腔室反應並形成沈積物。氣體混合裝置便於在腔室中添加氣體進行處理。電子控制整機，負責監測和控制溫度、壓力、氣流等工藝參數。AIXTRON Crius 31x2為生產半導體和光伏材料提供了可靠的多室解決方案。它配備了快速精確的溫度操縱的最新技術，借助加熱過濾的廢氣凈化工具提供了清潔的環境。預熱器的集成保證了薄膜和外延層的高質量沈積。