二手 AIXTRON Crius 31x2" #9353182 待售

AIXTRON Crius 31x2是為先進薄膜加工而設計的高度先進的反應器。它使用先進的技術為各種應用提供先進的性能、卓越的過程控制和最高質量的結果。Crius 31x2采用了最新的金屬有機物化學氣相沈積技術和氧化技術，可以無與倫比地控制沈積速率、生長速度、層厚和摻雜劑濃度，用於薄膜應用。這使得它成為其他先進工藝如PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）、ALD（原子層沈積）和CVD（化學氣相沈積）的理想反應器。AIXTRON Crius 31x2反應堆是一個模塊化系統，這意味著可以購買額外的模塊來擴展整個規模和可能的工藝數量。它提供了大量的配置選項，以及具有多個獨立可控的腔室，以實現過程的靈活性和可重復性。Crius 31x2具有超快的沈積速率,能夠達到每秒28納米的沈積速率,其獨立的控制室提供溫度和壓力控制。Crius 31x2還利用AIXTRON專有的等離子體增強層映射（PELM）技術,允許在晶圓的整個表面放置材料,並采用統一、精確的像素級控制。此技術允許沈積高長寬比特性,支持高級MOSFET晶體管、高性能內存設備等技術。Crius 31x2的大腔室尺寸和快速沈積速率也使得8英寸晶圓的器件能夠沈積。這使得Crius 31x2成為LED、太陽能電池、顯示屏等高效、功能強大的電子設備沈積的完美選擇。此外,Crius 31x2還提供多種附件選項,使其能夠滿足任何用戶的需求。這使得它成為一個用途非常廣泛的系統,可用於各種應用程序。總而言之，AIXTRON Crius 31x2反應堆是一個先進、功能豐富、可靠的薄膜處理系統，非常適合處理各種各樣的應用。它提供了卓越的工藝控制、均勻的沈積、較大的腔室尺寸以及廣泛的定制選項,使其成為研究和生產的理想選擇。