二手 AIXTRON Crius I #192608 待售

製造商
AIXTRON
模型
Crius I
ID: 192608
Reactor, 31x2 GaN Configured for 31x2, can be upgraded for 37x2, 8x4 or other configurations System has EpiCurve and Twin TT installed (2) RM 25S and (4) RM 6S thermal baths Source Configuration: TMGa-1, TMAl-1, Cp2Mg-1, Cp2Mg-2, Cp2Mg-3, TMIn-1, TMIn-2, TMGa-2, and 4 spare source lines Currently installed 2008 vintage.
AIXTRON Crius I是用於復合半導體薄膜沈積的多功能外延反應器。是一款300 mm水平冷壁CVD工具,配備LPCVD、PECVD、EPI、MBE等多種工藝技術。Crius I腔室的溫度範圍很廣,允許高溫(HT)沈積高達1000 °C,低溫(LT)沈積降至100 °C。AIXTRON Crius I先進的工藝控制功能可實現精確摻雜劑控制、嚴密溫度控制、精確功率控制以及量身定制的氣體流量。Crius I提供強大的光學監控功能,包括實時膠片厚度和發射率測量,使用戶能夠監控每個工藝層並確保所有膠片均符合最高質量標準。AIXTRON Crius I是一個高度自動化的平臺,使用戶能夠配置和保存會議廳設置以及配方配置文件。Crius還具有其他功能,例如閉環反饋控制、防止等離子弧的故障安全機制,以及允許用戶實時監控過程的視頻設備。Crius I提供跨多個晶片的卓越均勻性,最大非均勻性在基板上小於1%。AIXTRON Crius I也有多個晶圓處理和盒式磁帶的選項,有多個晶圓負載端口用於單個晶圓和盒式磁帶交換的可能性。Crius能夠分批沈積在單個或多個基質上。Crius I具有動態晶片冷卻系統,具有單個或多個冷卻區域,可實現卓越的增長率控制和峰值效率。AIXTRON Crius I還具有集成的裝載機和卸載機,可實現最大的靈活性和生產力。最後,CriusI是一種300 mm的多用途反應器,能夠進行HT和LT沈積。它是一個堅固而精心設計的平臺,確保了摻雜劑控制的精確度和溫度的穩定性,使用戶能夠生產高質量的復合半導體薄膜。AIXTRON Crius I先進的光學監控功能、動態冷卻單元、集成裝卸機使其成為先進復合半導體沈積工藝的絕佳選擇。
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