二手 AIXTRON Crius I #9065476 待售

AIXTRON Crius I是一種化學氣相沈積（CVD）蝕刻反應器，設計用於廣泛的工業和學術研發應用。這種創新的反應器支持外延、多晶矽沈積、耐火金屬沈積、薄膜摻雜等工藝。Crius I由石英工藝室、射頻發生器、原位氣體輸送設備、真空泵送系統和先進的CVI控制器組成。AIXTRON Crius I石英室的設計具有最大的工藝靈活性。腔室內部裝有石英腔室屏蔽，設計用於最大限度地減少汙染，優化整個工藝的均勻性。腔室的設計保證了均勻的氣體分布和熱均勻性。此外，腔室屏蔽減少了蒸發冷凝，從而提高了工藝可靠性和可重復性。射頻發生器設計為在腔室內提供可調節射頻電源。這有助於控制工藝參數，如沈積速率、基板溫度和氣體成分。發電機裝有自動ARCON（自動坡道控制輸出）設置、優化器、軟啟動和RF功率輸出監視器。這些元素的組合為優化和控制過程提供了極大的靈活性。Crius I配備了先進的原位氣體輸送裝置。這臺機器由四個獨立的閥門塊組成，每個閥門塊都有自己的壓力傳感器，這使得過程的初始化和調整變得快速和容易。氣體輸送工具允許預先控制所需氣體輸入，如Ar、N2、O2、H2、SiH4、PH3、D2和許多其他處理氣體。AIXTRON Crius I還配備了真空泵送設備，具有集成離子吸收器變頻驅動（VFD）的設計特點。與機械泵相比，這可以實現更快的泵降時間和更高的整體效率。Crius I的高級CVI控制器設計用於自動化和集成整個模型,使用戶能夠監視和控制與過程相關的眾多參數。這使得啟動時間加快,過程結果更加一致。總之，AIXTRON Crius I是一種先進的、高性能的蝕刻反應器，提供卓越的工藝靈活性和可靠性。其石英工藝室、射頻發生器、氣體輸送設備、真空泵送系統和CVI控制器的結合，為各種工業和研發應用提供了高效、經濟高效的蝕刻解決方案。