二手 AIXTRON Crius I #9351635 待售

AIXTRON Crius I
製造商
AIXTRON
模型
Crius I
ID: 9351635
GaAs System 31x2".
AIXTRON Crius I是一種等離子體型熱化學氣相沈積(CVD)反應器,設計用於優越的層沈積性能和工業級控制。適用於廣泛的應用和材料,適用於高長寬比結構。Crius I的設計是在直徑1到8英寸的晶片上沈積層。AIXTRON Crius I使用RF等離子體將源物質激發成離子和自由基態,以便在低溫下產生均勻的塗層。該源材料作為汽化氣體通過輸液源引入腔室。氣體隨後被反應堆電源提供的射頻等離子體激發。射頻等離子體將氣體分解為離子和自由基物質,它們與原料合並,在晶圓上形成所需的層。這樣就形成了均勻的層次,具有極好的階梯覆蓋和無針孔的沈積物。Crius I配備了廣泛的特性和功能,包括自動晶片裝載機、離子束清洗、溫度控制和監控、滾動泵、射頻功率控制和多區模塊。這使得層沈積與各種原料和多個基板,而無需額外的設備。AIXTRON Crius I是一種先進的熱力CVD反應堆,設計用於工業級和工藝開發應用。適合高長寬比結構、高通量、可重復處理參數的層層沈積。與傳統的PECVD或LPCVD工藝相比,Crius I允許的材料來源種類繁多,可確保提高可靠性和材料性能。
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