二手 AIXTRON Crius II X-L vu #9408188 待售

製造商
AIXTRON
模型
Crius II X-L vu
ID: 9408188
MOCVD Systems Gases: N2 H2 NH3 SiH4 MO Baths: LAUDA RM6 for C10H10mg LAUDA RM6: 2-Storage (CH3)3Ga (C2H5)3Ga (CH3)3Al (CH3)3In.
AIXTRON Crius II X-L vu是為大型石墨烯結構生長而設計的最先進的化學氣相沈積(CVD)反應器。其特點是具有可變淺室高度的凹入式磁化器設計,可精確控制石墨烯層的厚度和對齊方式。Crius II X-L vu還包括一個CVD清潔設備(CCS),它從晶圓中清除沈積的碳,以獲得更好的材料質量和更少的雜質。此外,該系統還包括一個高精度晶片加熱器,確保均勻和均勻的加熱,以改進生長過程中的熱控制。AIXTRON Crius II X-L vu是一種先進的CVD反應器,非常適合大面積石墨烯層的高通量和可重復生長。該單元通過一個專有的圖形用戶界面(GUI)進行控制,該界面允許對增長過程中的每個步驟進行完全參數化。這包括溫度、壓力和流量等參數,並允許對過程進行全面優化。Crius II X-L vu還包括一臺可快速裝卸晶片的鎖載機。AIXTRON Crius II X-L vu提供優異的生長條件,溫度可調節至1150 °C,壓力可調節至100 Torr。這允許微調增長參數,以精確控制增長層的厚度、對齊方式、大小和數量。Crius II X-L vu也能夠產生具有優異電性能的高品質連續石墨烯層。該工具包括一整套用於每個區域溫度控制的獨立溫度控制器,以及獨特的雙側腔室設計,提供相當大的整體資產效率。所有這些特性使AIXTRON Crius II X-L vu成為大規模石墨烯生長的絕佳工具。其先進的設計、高精度的晶片加熱器和可調節的溫度、壓力和流量使Crius II X-L vu成為研究人員和行業工程師尋找研究和生產高質量石墨烯層的完美工具。
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