二手 AIXTRON Crius II #293587244 待售

AIXTRON Crius II是一種水平安裝的大面積沈積設備，利用雙室工藝技術，提高了工藝的均勻性、吞吐量和精確的工藝控制。這種水平沈積過程非常適合受控環境過程（CAP）.Crius II設計基於32英寸基片尺寸，可以處理300毫米晶圓尺寸的應用。AIXTRON Crius II工藝室設計緊湊，占地1.7m x 1.5m，體積為6.5立方米，在室內安裝反應堆和加工部件時可提供寬敞的控制空間。Crius II工藝室包含多個組分，包括三個大功率射頻源、磁控管濺射源、離子源和高溫擴散源。兩個射頻源用於沈積，兩個用於蝕刻。AIXTRON Crius II能夠利用磁控管濺射、遠程等離子體、熱源和高溫反應堆實現沈積。該腔室的溫度調節到所需的工藝溫度，並為每個工藝腔室提供兩個單獨的氣體供應。兩級氣體控制器獨立控制氣體水平、壓力和流向工藝室的流量。這種先進的控制系統提供了廣泛的工藝參數，以優化工藝和目標晶圓質量。Crius II使用的高級控制單元還允許自動和手動控制工藝參數,包括源掩模放置、壓力、基板速度和溫度。基板使用原位旋轉臺在腔內旋轉，允許均勻和均勻的沈積和蝕刻。AIXTRON Crius II的高級控制機器也使得它與多個腔室冷卻選項兼容，允許用戶根據個別工藝要求量身定制冷卻解決方案。Crius II工藝室設計用於處理各種危險物質，包括B類和C類氣體。最後，AIXTRON Crius II室提供了多種在線診斷工具，包括原位成像、光發射光譜、石英晶體微平衡以及一些其他診斷評估。這些工具使用戶能夠識別潛在的汙染源、氧化膜、顆粒沈積和監測膜的均勻性。