二手 AIXTRON Crius II #293591984 待售

AIXTRON Crius II是由AIXTRON開發的Crius低壓CVD（LPCVD）設備的升級版生產版本。Crius II是一種多晶片反應器，其特點是能夠提供優越的保形、均勻和可重復的前體沈積到多種晶片基板上。將前體材料密封，然後輸送到CVD室中，在低壓（1-200毫巴）和低溫（200-600°C）下形成沈積物。AIXTRON Crius II是一種可靠、經濟高效的解決方案,適用於一系列研究應用。它的小室設計最大限度地減少了熱載荷，提供了最大的均勻性和沈積物的可重復性。低壓環境防止自由基影響所產生沈積的質量。因此,Crius II可實現低至0.5 nm的一致厚度變化。此外，反應堆具有廣泛的溫度和壓力組合，可以有效地處理各種不同的材料增長，包括半導體和磁性材料的沈積。隨著AIXTRON Crius II固有的精確度，該室進一步裝備了AIXTRON 'ReadyPLUS'控制系統。這包括獨特的腔室幾何設計、增強的外殼層、自動和手動區域控制、改進的冷卻和加熱系統以實現溫度均勻性以及可調節的氣流監測單元。此外，為了實現工藝的靈活性，Crius II能夠利用'順序沈積'和'序列流控制'算法，使多層不同材料在一個腔室中沈積。這臺具有開創性的控制機器還提供自動排烴、依賴於路線的配方管理和預防性維護功能等功能。綜上所述，AIXTRON Crius II是一種先進的LPCVD工具，裝備用於處理廣泛的材料沈積應用。憑借其精確、可重復的沈積能力和精密的控制資產，Crius II是半導體和磁性沈積領域研究人員的理想選擇。