二手 AIXTRON Crius II #293627743 待售
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AIXTRON Crius II是為金屬和介電材料的薄膜沈積而設計的高性能固體源沈積系統。它是AIXTRON Crius系列的最先進版本,在納米材料的生產中被廣泛視為改變遊戲規則。Crius II結合了高吞吐量、可重復性和可靠性,用於生產用於光學和電子應用的薄膜。該系統由兩個模塊化源、一個源控制單元和一個源容器組成,均具有獨立控制的熱條件。基材的尺寸可達200毫米,可放置在加熱階段,最高可達1000 °C。有各種可移動的沈積源,包括磁控管和坩堝源,允許廣泛的薄膜形成過程。AIXTRON Crius II能夠生產厚度均勻、特性優異的薄膜,同時提供高達400nm/min的高沈積速率。該系統能夠提供化學計量、缺陷密度降低的金屬氧化膜,以及表面粗糙度優越、宏觀形態優良的金屬膜。它還具有較高的吞吐量能力,並針對大規模生產薄膜和納米結構材料進行了優化。Crius II允許通過直觀的圖形用戶界面進行過程控制,並且預裝了多種薄膜材料的配方,從而實現了自動化過程控制。它還具有先進的安全功能和溫度監測系統。AIXTRON Crius II是生產高性能薄膜的理想選擇,具有生產均勻性提高、特性優越的薄膜的能力。CriusII具有廣泛的可移動源、高沈積率和易於控制的工藝,是許多納米材料生產的重要工具。
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