二手 AIXTRON Crius II #293831257 待售

AIXTRON Crius II是一種化學氣相沈積反應器（CVD），用於薄膜沈積和半導體加工。專為提供高級材料研究和器件制造的優質薄膜而設計。反應堆是一種單晶片大氣壓設備，在時間上最多支撐兩個晶片。它提供0.7至2 Torr的低壓和50至500 °C的高溫範圍。Crius II由幾個模塊和組件組成。兩個主要模塊是負載鎖定系統和主腔室。負載鎖定單元固定晶片,並在沈積過程中提供保護。主室是保護晶片免受氣體和壓力影響的圓形室。它還能防止外界汙染，保持最佳沈積環境。AIXTRON Crius II還包括一臺晶圓運輸機，將晶圓送入和送出腔室。晶片傳遞工具配有傳送帶和推動器，在腔內移動晶片。Crius II由計算機資產提供動力，它控制模型的壓力和溫度，以及反應物的流動和沈積過程的時間。它允許用戶調整溫度和壓力等參數，以滿足他們的具體要求。AIXTRON Crius II還具有自動化設備，允許用戶編程設置。這種自動化系統有助於降低沈積過程的復雜性，使其更加高效。Crius II的先進設計也是為了高效快速的沈積而設計的。它配備了先進的沈積技術，確保薄膜的沈積準確一致。它支持多種沈積技術，具有先進的預沈積室，為晶片的沈積做準備。這確保了在主室中均勻的化學沈積，從而產生高質量的薄膜。AIXTRON Crius II也被設計為方便用戶。它提供了一個大的彩色觸摸屏顯示屏，允許用戶直觀地從正面控制單元。屏幕上的菜單使控制設備和設置沈積更容易運行。總之，Crius II是一種先進的CVD機器，為先進的材料研究和設備制造提供高質量的薄膜。它是為高效和快速沈積而設計的，其用戶友好的界面使得它更容易使用。它具有先進的預沈積室、先進的沈積技術和自動化的編程工具，是薄膜沈積的絕佳選擇。