二手 AIXTRON Crius II #9135739 待售

AIXTRON Crius II是一種優越的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於生產用於半導體材料的優質薄膜層。該反應堆配備了先進工藝控制（APC）技術的先進設備，采用自適應算法最大限度地減少沈積速率波動以實現均勻冷卻。它還有一個快速有效的控制膜溫度的系統。Crius II包括兩個用於裝卸晶片基板的垂直晶片架。主室由不銹鋼制成，在惰性氣體環境下運行，以實現最佳均勻沈積。它還有一個有源氣體流量控制單元，能夠精確測量反應性氣體混合物，精確控制最佳原子層沈積所需的氣體流量條件。AIXTRON Crius II還有一個脈沖電子束源機，用於在晶圓上的各個點產生局部加熱，使其能夠精確、均勻地沈積薄膜。此外,它還具有一個現場監視器,允許用戶實時測量物理屬性（如應力和電氣屬性）。為了進一步確保高產量，Crius II可以配備額外的工具能力，包括自動對焦和單晶爐。它還具有板載環形射流特性,有助於提高冷卻速率並減少層間的膜運動。AIXTRON Crius II的設計符合薄膜生產精度和效率的最高標準。其先進的CVD工藝控制資產以最小的溫度和速率波動提供了優越的效果。此外，其高效的惰性氣體環境提供了清潔、均勻的沈積環境。加上自動對焦對準和環形噴射等附加功能，Crius II能夠以最小的膠片運動達到最高品質的薄膜。總體而言，這種高效的反應器非常適合要求苛刻的半導體工業中的薄膜沈積。