二手 AIXTRON Crius II #9160107 待售

AIXTRON Crius II是一種工業級沈積設備，旨在滿足要求苛刻的沈積過程的需求，如MBE生長或涉及復合半導體開發復雜物料堆棧的先進CVD過程。該反應堆在III-N材料上的外延層生長方面表現出色，如GaN和GaAs，而高達1000 °C的溫度範圍增加使得該系統非常適合AlGaN、GaN和SiC的生長。Crius II的雙室單元為前所未有的流程提供了靈活性和控制權。該機設有兩個單獨配置的沈積室：用於基板處理、裝載、冷卻、排氣和泵送的下室；以及用於物料加工的上室,具有多種不同的源選項,並改進了高達1000 °C的高溫範圍。基板可以通過一個最多可容納三個基板的平臺直接從下室轉移到上室，並使用直觀的觸摸屏操作。AIXTRON Crius II利用AIXTRON專有的C-Mode技術提供優越的性能,在不同的基板上提供均勻的層增長,甚至是高長寬比基板。C-Mode提供精確且恒定的工藝條件，自動校準，並保持外延晶體之間的穩定重疊比。這樣可以確保整個樣品的層均勻性,並且由於叠加層的變化而減少了拒絕。上腔的壓力控制也得到了改進，使整個沈積過程的控制和均勻性得到改善。原料來源可以從工具的工具室裝載到Civia帶狀供給的船上，有多艘船可以覆蓋全部原料。三種可用的源類型是快門−ave、processRF和carrierRF。對shuttered−ave源進行了設計，以保持基板和源面之間的精確間隙，以確保均勻的層增長。ProcessRF和CarrierRF源在過程中最大化源-基板距離以達到最高顆粒抑制水平。Crius II旨在確保輕松維護和操作,並提供高效的工作流,幫助確保生產過程中的一致性和成本效益。AIXTRON Crius II具有廣泛的特性和可靠的性能，是先進復合半導體材料工業沈積工藝的理想解決方案。通過AIXTRON先進的C-Mode技術及其增強的溫度範圍相結合，Crius II有助於建立滿足現代制造需求所需的高質量標準。