二手 AIXTRON Crius II #9272514 待售

AIXTRON Crius II是一種先進的沈積設備，旨在為各種應用提供高效和精確的物理氣相沈積（PVD）工藝。反應堆采用了一種「懸浮基板」技術，允許用戶改變和改善其薄膜沈積能力。這種技術將基板材料懸浮在加熱的基座上，允許在整個基板上均勻沈積，而不會在某些區域聚集或堆積。Crius II能夠生產一批尺寸和形狀範圍很廣的基材。AIXTRON Crius II配備了自動化基板處理系統，允許用戶調整基板的運動，優化基板相對於沈積源的對準。這使用戶能夠在基板表面進行精確和可控的厚度變化。此外，Crius II具有創新的沈積源，利用獨特的陽極電弧放電工藝，提供高精度的沈積速率和精確的薄膜厚度。AIXTRON Crius II的內部具有先進的空氣冷卻裝置,可確保高效的熱量管理,使沈積過程保持整個腔室的一致溫度。此外，該室還采用氮氣流燃料噴射機，為高質量的沈積過程創造高純度的氣氛。Crius II還配備了先進的診斷工具，利用嵌入式PC監控、獲取和分析來自反應堆環境的數據。這有助於用戶降低維護成本以及提高基板沈積和塗層的質量。AIXTRON Crius II能夠監測環境參數，包括壓力、溫度和濕度，這有助於確保可重復和一致的沈積結果。Crius II是一種高效可靠的沈積資產，適合廣泛的應用。它為用戶提供精確的沈積速率和均勻的基板塗層能力，以及具有出色的熱管理和數據采集系統的高度可靠的環境。因此，AIXTRON Crius II是用於各種工業的高精度沈積過程的理想反應堆。