二手 AIXTRON G3 ICHT #9296290 待售

AIXTRON G3 ICHT是一種用於先進半導體制造的領先氣相沈積反應器。它旨在為納米結構半導體材料和結構的生產提供可靠、精確和高生產率的性能。廣泛用於MOCVD（金屬有機化學氣相沈積）、PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）和厚膜沈積。這種先進的CVD反應堆設備包括四個主要組件：驅動程序、腔室、電源和冷卻系統.驅動器是反應堆的心臟，用於控制沈積過程。它由PC控制的「接口」和DC-driver兩部分組成。該接口用於控制工藝參數,如工藝壓力、沈積速度等.直流驅動器用於驅動電化學激活的沈積源，允許在超低溫下進行非常精細的沈積。反應堆室采用不銹鋼制成，並配有特氟龍和石英窗，用於查看過程。頂部和底部有兩個矩形開口，使工藝氣體被加熱，適合後續反應。頂部的光學窗口還確保了控制過程和監控材料生長的效率。直流電源為驅動器和電源供電,確定沈積過程中的電壓。該過程的溫度由冷卻裝置監測和控制，冷卻裝置由冷卻盤、水冷墻和溫度傳感器組成。這種冷卻機能非常精確地控制沈積過程中的溫度.G3 ICHT是一種用途廣泛、可靠、精確的CVD反應器，能夠生產高質量的半導體材料，厚度均勻性極佳。其堅固的設計能夠快速沈積高質量薄膜,並且在工藝設計方面提供靈活性,即使在超低溫下也能沈積各種材料。此外,該工具的固態可靠性和精細的過程控制可以克服與傳統CVD過程相關的挑戰。