二手 AIXTRON G3 #293602405 待售

AIXTRON G3是一種用於半導體器件制造的大體積沈積工具。此工具利用了一組豐富的功能,可實現非常高質量的結果。它是第一個結合靜電和化學氣相沈積（CVD）的多合一工具，根據反應堆等級。由於具有金屬和介電沈積的能力，該工具可用於為不同的器件結構構建金屬和介電層。它是一個三室、低熱穩定性反應堆。它的腔室設計用於獨立的高熱沈積應用，包括一個氣體噴頭提供低熱沖擊。這就排除了需要一個專門用於防熱的單獨室的需要。AIXTRON G3擁有高效的多區溫度控制系統和高精度的過程控制。這使得基板溫度具有極好的均勻性和可重復性。反應堆使用三個單獨的沈積源，形式為專用於金屬沈積的積液池（MOCVD/MOTE），以及兩個專用於介電沈積的液體或氣源。這些源被封閉在真空密室中，並通過精確定時供電和供氣提供對沈積速率的精確控制。G3具有快速反應室，其中溫度可以在幾秒鐘內調節。此功能有助於加快處理時間,同時仍保持出色的一致性。此外，可以調整射頻源的頻率，以便進一步優化該過程。G3允許在單晶片和多晶片處理中使用單個設置最多沈積三層薄膜。這提供了比許多其他沈積工具更高的吞吐量。該工具強大的體系結構還允許廣泛的過程溫度以及射頻偏差控制。總體而言，AIXTRON G3是一種多用途、高性能的沈積工具，能夠在半導體器件制造中獲得優異的質量效果。其多維控制能力、快速沈積速率以及在一個設置中沈積不同層的能力，使其成為廣泛應用的絕佳選擇。