二手 AIXTRON G3 #293779026 待售

AIXTRON G3是一種高性能沈積設備，適合用於研究，也適用於高端半導體器件的生產。這座反應堆采用緊湊的設計，非常適合小型生產運行的設備，最大工藝面積為500毫米x 350毫米。在性能方面,AIXTRON G 3能夠在手動過程中達到高達0.5 μ m/min的沈積速率,在使用自動化時達到3.0 μ m/min的沈積速率。它還具有高度的靈活性，允許最多8個工藝，並支持各種沈積材料。G3采用平行板靜電荷傳遞系統，在整個基板上實現了極好的沈積均勻性。該裝置非常適合在材料層之間產生尖銳的界面，這對於生產先進的器件結構非常重要。G3還配有光學反饋控制機，以確保操作的一致性，以及塔式烤箱和晶圓夾具，用於精確的溫度控制。AIXTRON G3配備了多種特性，使其適合多種應用。它具有惰性氣體淋浴頭，為沈積過程提供惰性大氣，並可配備多種處理源，包括熱蒸發、腐蝕性鍍層、電子束蒸發。此外，它與一系列非蒸發源兼容，如離子束濺射、化學氣相沈積和激光燒蝕。在安全方面，AIXTRON G3還配備了防爆電纜，可防止危險火花或火災的危險，以及安全爆炸外殼，以保護人員在處理過程中免受高能火花的傷害。它還配備了實時過程監測工具，可以檢測基板低溫的波動，從而能夠進行精確的控制。總體而言，G3是一種極其可靠且用途廣泛的沈積資產，因此適合多種應用。對於那些為沈積過程尋找高性能和可靠模型的人來說，這是一個極好的選擇。