二手 AIXTRON G3 #9066893 待售
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已售出
ID: 9066893
晶圓大小: 4"
MOCVD Systems, 4"
LED for GaN
Wafer Size : 4" x 8 , 2" x 24
Epi-tune: In-situ reflectance spectra
Gas: N2 / H2 / HCL / SiH4 / NH3
Source: TMGa, TEGa, Cp2Mg, TMIn, TMAl
Gas System:
Gas line: VCR type
MFC: Bronhost
Carrier gas: H2 flow 70L/min; N2 flow 70L/min
Vacuum System:
Process pump: Ebara ESA25D
Filter: exhaust gas filter with separate water cooling unit
Pressure control: MKS651 controller, throttle valve
Includes:
GMS Cabinet
Reactor cabinet
Exhaust and chamber
Scrubber
RF Generator
Particle filter
Pump
Software OS; Window
Voltage: 208 V AC, 3-Ph
Power: System: 25 kVA, Heater: 144 kVA
Frequency: 50/60 Hz
Cooling system:
Cooling liquid: Water
Max. inlet pressure: < 6 bar
Differential pressure: > 4 bar
Inlet temperature: < 25º C
Outlet temperature: < 65º C
2005-2007 vintages.
AIXTRON G3是一種化學氣相沈積反應器，設計用於生長先進的功能材料。AIXTRON G3工藝室適合各種材料的生長,包括高遷移率金屬、電介質和半導體,並具有多種先進技術,特別是高工藝靈活性、全方位氣體控制和高度直觀的用戶界面。AIXTRON G3process腔室能夠容納多達四個線性配置的晶片，總容量最多為8個晶片（6英寸或4英寸），帶有單個基板支架。G3的靈活性使得從鋁到矽的各種材料能夠在各種晶圓類型上生長。晶圓溫度範圍從室溫到500攝氏度，用於生長III-V、過渡金屬氧化物和金屬。G3具有三壁結構的被動式離子泵泵降系統，可消除外界汙染。它還提供多區溫度控制和溫度監測氣體流動，允許獨立的過程控制和獨立的溫度控制蒸發材料。所有過程參數都是可調的，允許用戶精確控制增長條件。AIXTRON G3包括高級用戶友好軟件包,它提供組織良好、易於理解的圖形用戶界面（GUI）。這有助於用戶方便地控制流程,而不必擔心復雜的流程或編程。軟件包還集成了所有安全代碼，以確保工藝的安全運行和對基板的最大保護。AIXTRON G3是在各種晶片類型上以高精度種植多種材料的好選擇。它可以用作研究和工業應用的有效工具。這項尖端技術提供了創造先進材料的獨特機會,並為各種應用開發高性能產品向前邁進了一步。
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